CELVEDE reset - Aufbaumaske
________________________________________
Moderne Kosmetik
InhaltsstoffeSchnelle Aufbaumaske
Diese Aufbaumaske ist ein intensiver Schönmacher für den besonderen Anlass. Schnell einziehend und sichtbar aufpolsternd wird gestresste Haut verwöhnt und nachhaltig verbessert.
Aqua (Water), Glycerin, Glyceryl Polyacrylate, Hydrogenated Lecithin, Butyrospermum Parkii, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Ceramide 3, Myristyl Lactate, Squalane, Sodium Ascorbyl Phoshate, Aleuntes Moluccana Nuit Oil, Oryza Sativa Brain Oil, Sodium Hyaluronate, C12-15 Alkyl Benzoate, Butylene Glycol, Carbomer, Polysorbate- 20, Palmitoyl Oligopeptide, Palmitoyl Tetrapeptide-7, Vanillyl Butyl Ether, Proline, Lysine, Spilanthes Acmella (flower extract)
.
________________________________________
Aufbau & Wirkstoffe
CAS (Collagen-Aufbau-System)
Diese Wirkstoffkombination, bestehend aus dem Collagenbooster Matrixyl®, den Collagenvorstufen Prolin und Lysin sowie aus hoch dosiertem Vitamin C, unterstützt die Collagensynthese nachhaltig und regt den Gewebeaufbau an.
DMS (Derma Membran Struktur)
Eine natürliche Nachbildung des Sebums der Haut und daher hochverträglich. Diese Verbindung schützt und glättet die Hautoberfläche und macht gleichzeitig den Einsatz hautschädigender Emulgatoren überflüssig.
3fach Hyaluronan
Hochmolekulares Hyaluronan speichert ein Maximum an Feuchtigkeit in den obersten Schichten der Haut und beseitigt so kleine Trockenheitsfältchen. Die Hautoberfläche wird geschützt und gepflegt.
Mittelmolekulares Hyaluronan entfaltet seine Wirkung in den Schichten der Epidermis, schützt vor freien Radikalen und mindert u.a. die schädlichen Auswirkungen von intensiver Sonneneinstrahlung.
Niedermolekulares Hyaluronan dringt noch tiefer in die Haut ein und löst die Ausschüttung wichtiger Signalpeptide aus. Diese unterstützen und beschleunigen die Neubildung von Gewebestrukturen.
________________________________________
Moderne Kosmetik
.